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L'objectif de cette recherche est de modifier la mouillabilité des surfaces composées d'oxyde de silicium, SiO2, principal composant de la porcelaine, des verres et des couches anti-rayures utilisées en optométrie, afin de mettre au point des traitements anti-buée et anti-givre. L'implantation ionique à basse énergie (~keV) est un outil efficace pour ces traitements. Il a l'avantage sur les plasmas de permettre un meilleur contrôle des paramètres de traitement (énergie, dose et pureté du faisceau) tout en éliminant les rayonnements X et UV. Les matériaux utilisés sont le quartz (isolant) et le silicium (semi-conducteur avec une surface de SiO2) ce qui …
Dans la recherche de matériaux ayant à faire face au plasma d'un tokamak, les matériaux ayant un Z petit représentent un intérêt particulier. Les propriétés dynamiques de l'hydrogène, du deutérium, et de l'hélium implantés dans ces matériaux à différentes fluences ont été étudiées par désorption induite par laser. Grâce à une méthode de micro-analyse nucléaire, nous avons observé l'évolution des profils de H et D, mettant en évidence les processus de détrapage et de diffusion. Les profils désorbés par laser ont été comparés à ceux obtenus d'une simulation. Dans le cas du béryllium, deux processus différents peuvent survenir: à faible …