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L'interaction des électrons avec la matière fournit de précieux renseignements dans la caractérisation de surfaces et de l'interface gaz adsorbés sur ces dernières. Parmi ces phénomènes, la diffraction d'un faisceau d'électrons provoque l'apparition d'un patron de franges de taches reliées aux propriétés de symétrie dans l'organisation des atomes substrat et de l'homogénéité des niveaux énergétiques des états de revêtement. Deux de ces techniques sont : la diffraction des électrons lents (DEL) et des électrons rapides (DER). La DER est plus particulièrement sensible aux substrats, car elle utilise les faisceaux de hautes énergies (5 à 15 keV) à incidence rasante. À …