Résultats de recherche

filters logos

Filtrer les résultats

arrow down
Années
Type de contenu
Exporter les résultats Sauvegarder les résultats
3 résultats de recherche
pen icon Colloque
Photoréduction de N2 à partir de revêtements de WO2.9x obtenus en projection par plasma
quote

Des revêtements de WO2.99 (jaune) et de WO2.97 (bleu) ont été obtenus à partir de la projection par plasma d'une poudre de WO3 sur des substrats de titane. La microscopie électronique à balayage (MEB), la diffraction des rayons-X et les mesures électrochimiques des deux films révèlent que WO2.99 a des caractéristiques très différentes de WO2.97. La photoréduction de N2 en NH3 a été réalisée avec WO2.99 et est impossible avec WO2.97. Le NH3 est produit sous illumination en lumière blanche (30 mW cm-2) en mettant en contact du N2 saturé de vapeur avec le WO2.99 à 50°C. La spectroscopie d'absorption …

quote
pen icon Colloque
Synthèse du carbure de silicium à l'aide d'un plasma thermique
quote

La production de poudres céramiques ultrafines étant un domaine en expansion, nous présentons une méthode de synthèse de poudres submicroniques de carbure de silicium, qui fait réagir le chlorure de silicium et le méthane, en utilisant comme source d'énergie, un plasma thermique en courant direct. Nous discuterons de l'influence de plusieurs paramètres expérimentaux (rapport C/Si et H/C, puissance et composition du plasma,...) sur la nature des poudres obtenues. La caractérisation s'effectue par analyse chimique, spectroscopie infrarouge, diffraction des rayons-X, analyse de la distribution des particules et par microscopie électronique.

quote
pen icon Colloque
La mise en forme des nouveaux oxydes supraconducteurs à des températures supérieures à celle de l'azote liquide
quote

La mise en forme des nouveaux oxydes supraconducteurs à des températures supérieures à celle de l'azote liquide est relativement difficile en raison de leur fragilité intrinsèque et de la nécessité de contamination avec une quantité donnée d'oxygène dans le matériau. La projection par plasma est une technique de mise en forme qui permet de déposer des revêtements de grandes surfaces, des revêtements dont l'épaisseur varie de 20 μm à quelques centaines de μm. Nous avons utilisé cette méthode pour déposer des revêtements de YBa2Cu3O7-x et de NdBa2Cu3O7-x sur divers substrats. Tels que déposés, les revêtements ne sont pas supraconducteurs. Cependant, …

quote