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La production de poudres céramiques ultrafines étant un domaine en expansion, nous présentons une méthode de synthèse de poudres submicroniques de carbure de silicium, qui fait réagir le chlorure de silicium et le méthane, en utilisant comme source d'énergie, un plasma thermique en courant direct. Nous discuterons de l'influence de plusieurs paramètres expérimentaux (rapport C/Si et H/C, puissance et composition du plasma,...) sur la nature des poudres obtenues. La caractérisation s'effectue par analyse chimique, spectroscopie infrarouge, diffraction des rayons-X, analyse de la distribution des particules et par microscopie électronique.
La mise en forme des nouveaux oxydes supraconducteurs à des températures supérieures à celle de l'azote liquide est relativement difficile en raison de leur fragilité intrinsèque et de la nécessité de contamination avec une quantité donnée d'oxygène dans le matériau. La projection par plasma est une technique de mise en forme qui permet de déposer des revêtements de grandes surfaces, des revêtements dont l'épaisseur varie de 20 μm à quelques centaines de μm. Nous avons utilisé cette méthode pour déposer des revêtements de YBa2Cu3O7-x et de NdBa2Cu3O7-x sur divers substrats. Tels que déposés, les revêtements ne sont pas supraconducteurs. Cependant, …