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pen icon Communication
Modélisation de la croissance de couches minces de silice par précurseurs O-Si-O
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Dans un plasma, les électrons suffisement énergétiques activent des réactions chimiques et transforment le réacteur en une petite usine. Les molécules ayant réagi forment un dépôt, qui, dans des conditions adéquates, peut trouver de nombreuses applications dans des domaines aussi variés que la microélectronique ou l'emballage alimentaire. Les contraintes industrielles ont conduit à des dépôts fonctionnels de plus en plus fins, au point qu'il n'est parfois plus possible de les traiter comme des milieux continus. L'utilisation de méthodes de caractérisation rendant compte de la structure atomique des dépôts reste une entreprise très coûteuse et dont les résultats doivent être raffinés …

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